業界のニュース- KOTA Technology Limited Company

Sep 04, 2025

電気堆積銅箔の製造機：包括的なガイド

のはじめに電気堆積銅箔機電気堆積（ED）銅箔の概要とその重要性電気堆積銅箔エレクトロニクスとエネルギー貯蔵の世界では、その並外れた電気導電率、機械的特性、薄くて耐久性のある構造に敬意を表して、礎石になりました。この銅...

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Aug 27, 2025

アルミ箔装置の革新により、包装、食品加工、産業用途の効率と品質を向上: 高速アルミ箔製造機械の新時代

今日の世界的な製造業と包装業では、アルミ箔設備効率、精度、持続可能性を高める上で重要な役割を果たしています。食品包装から医薬品包装、家庭用ホイルロールからハイテク産業用途に至るまで、アルミニウムホイルは欠かせない素材となっています。この生産チェーンの中心には、先進的なアル...

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Aug 20, 2025

なぜ銅ホイルスリッティングマシンが金属加工業界を変換しているのか：機能、アプリケーション、および利点は？

電子および金属加工産業が進化し続けるにつれて、材料処理における効率、精度、および信頼性はこれまで以上に重要です。広範囲にわたる注目を集めた1つの機器は銅ホイルスリッティングマシン。このマシンは、幅広の銅ロールを高精度の狭いストリップにカットするように設計されており、柔軟な印刷回路（...

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Jul 15, 2025

革新的なテクノロジーは、リチウムバッテリーの変換を促進します銅箔の生産 - カソードローラーの中心的な役割を説明する

カソードローラーの基本概念名前が示すように、カソードローラーは、電解銅箔の生産に使用されるコア機器です。それは主に、電気堆積技術を介してチタンローラーの表面に銅層を均等に堆積させ、高品質の電解銅箔を形成します。電解銅ホイルは、特に新しいエネルギー車両産業で、リチウム電池、統合回路、タッチスクリー...

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Jul 08, 2025

電気めっき銅箔の生産装置は、リチウムバッテリー産業の革新と開発をどのように促進しますか？

高度な電気めっき銅箔の生産プロセス電気堆積銅箔機リチウムバッテリー銅箔の製造専用に設計された効率的な機器であり、高度な電気めっきプロセスを通じて高品質の銅ホイルを生成できます。この機器の中心的な利点は、高精度制御システムと優れた生産安定性にあり、バッテリーの銅ホイルの...

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Jul 01, 2025

高効率銅溶解タンクは、非鉄金属の清潔な生産のパターンを再形成します

高効率銅溶解タンクモジュラーコンポジット構造を採用します。これは、タンクボディ、液体送達システム、銅溶解装置の3つのコアユニットで構成されています。タンクの本体は、精密な製造を備えた酸耐性材料で作られており、閉じたタンクカバーが上部に設置されており、ガスの揮発と不純物を侵入から効果的に分離し、そ...

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Jun 24, 2025

高性能チタンアノードプレート：電気分解プロセスのアップグレードをリードするコアコンポーネント

製品構造と製造プロセスこれアノードプレート高品質の6mmの厚さTA1純粋なチタンプレートを原料として使用し、長期の電解環境で構造の安定性と電極活性を維持できるように、精密な曲げ、整形、溶接、内側アーク表面処理などの複数のプロセスを通じて製造されています。特別な処理後、内側のアー...

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Jun 17, 2025

銅ホイル製造のコア強度 - ローラー機器技術のプロセスと革新の詳細な分析

ローラー機器：銅箔の製造の「最終武器」ローラー機器は、銅箔の生産プロセスにおいて不可欠で重要なツールです。そのコア機能は、連続カレンダー、ストレッチ、精密調整により、元の銅材料を制御された厚さと均一な幅に処理することですカレンダープロセスでは、ローラー機器は上部ローラーと下...

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Jun 10, 2025

高効率真空ドラム両側スパッタリングと電子ビーム蒸発システム：革新的なコーティング技術

真空コーティング機の技術原則真空コーティングマシンは、高い真空条件下で材料を覆うデバイスです。蒸発、スパッタリング、電子ビームの蒸発、その他の原理を使用して、基質の表面に原子または分子の形でコーティング材料を蒸発またはスパッタ化して、均一で安定した膜を形成します。これらのコーティン...

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Jun 03, 2025

連続マグネトロンスパッタリングコーティング生産ライン：高度な薄膜堆積技術が業界開発をリードする

連続マグネトロンスパッタリングコーティング生産ライン材料表面処理と薄膜堆積に一般的に使用される高度な技術です。その基本的な作業原則には、磁場を介してイオンビームの動きの軌跡を制御して、低圧環境でのスパッタリング堆積を実現します。このプロセスでは、アルゴンイオンが標的表面に加速され、爆撃され、標的原子...

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May 20, 2025

高真空プラズマスパッタリングコーティング装置：DPCセラミック基板のメタリゼーションを可能にするコア機器

半導体セラミック基板コーティング装置は、高真空電界プラズマスパッタリングの原理を採用し、少量のアルゴンガスを閉じた空洞に注入し、高電圧の作用下でそれをアルゴンイオンの流れにイオン化します。これらの高エネルギーのアルゴンイオンは加速され、標的材料を方向に攻撃し、標的材料の表面の原子が「スパッタ」になり、セラミック基...

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May 13, 2025

両面スパッタリングと電子ビーム蒸発液化真空ロールコーティングシステム - 効率的かつ正確な薄膜コーティング技術

これ真空コーター高い真空条件下でコーティングするための高度な機器です。両面スパッタリングと電子ビーム蒸発技術を組み合わせて、異なる基質の表面に薄膜を効率的かつ正確に堆積させることができます。銅やアルミニウムなどの金属コーティングの製造に広く使用されています。このシス...

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